電子廠砷廢水處理需要根據(jù)砷的形態(tài)（如As(III)、As(V)）、濃度、廢水pH值以及其他共存污染物（如重金屬、有機物等）選擇合適的處理工藝。以下是常見的砷廢水處理設備及技術方案：

1.化學沉淀法

適用場景：高濃度砷廢水（尤其As(V)）

設備組成：

反應池：投加石灰（Ca(OH)?）、鐵鹽（如FeCl?、FeSO?）或鋁鹽（如Al?(SO?)?），形成砷酸鈣、砷酸鐵等難溶沉淀。

絮凝池：加入PAM（聚丙烯酰胺）促進絮體形成。

沉淀池/澄清池：分離沉淀物（如斜板沉淀器）。

污泥脫水設備：壓濾機（板框/帶式）、離心機。

優(yōu)勢：成本低、技術成熟。

注意：As(III)需先氧化為As(V)（如投加次氯酸鈉、H?O?或臭氧）。

2.吸附法

適用場景：低濃度砷廢水深度處理

吸附劑：

活性氧化鋁：適合中性至酸性廢水。

鐵基吸附劑（如GFH、鐵改性活性炭）：對As(III)/As(V)均有效。

稀土材料（如負載鋯的樹脂）。

設備：

吸附柱：固定床或流化床設計，需定期再生或更換吸附劑。

過濾系統(tǒng)：配套精密過濾器（如多介質(zhì)過濾器）。

優(yōu)勢：去除率高（可達ppb級），適合小規(guī)模廢水。

3.離子交換法

適用場景：低濃度、低鹽度廢水

設備：

離子交換柱：填充選擇性樹脂（如砷酸鹽選擇性樹脂）。

再生系統(tǒng)：用NaCl或NaOH溶液再生樹脂。

注意：高鹽度或競爭離子（如硫酸鹽）會降低效率。

4.膜分離技術

適用場景：高純度回用要求

反滲透（RO）：可去除90%以上砷，但需預處理防膜污染。

納濾（NF）：對As(V)去除效果較好。

設備：膜組件、高壓泵、清洗系統(tǒng)。

劣勢：成本高，濃縮液需進一步處理。

5.電凝聚/電化學法

適用場景：中小規(guī)模廢水

原理：電解鐵或鋁陽極生成Fe2?/Al3?，形成氫氧化物絮體吸附砷。

設備：電解槽、電源、沉淀分離單元。

優(yōu)勢：無需投加藥劑，自動化程度高。

6.生物處理法

適用場景：含有機物的復合砷廢水

生物氧化：利用嗜砷菌將As(III)氧化為As(V)。

生物吸附：通過微生物代謝產(chǎn)物固定砷。

設備：生物反應器（如SBR）、污泥分離系統(tǒng)。

工藝組合示例

1.預處理：調(diào)節(jié)pH至中性，氧化As(III)→As(V)。

2.主處理：化學沉淀（鐵鹽）+絮凝沉淀。

3.深度處理：吸附/離子交換確保達標（如<10μg/L）。

4.污泥處理：壓濾后按危廢處置（砷污泥屬HW24）。

關鍵注意事項

砷形態(tài)分析：As(III)毒性高且難去除，需優(yōu)先氧化。

排放標準：國內(nèi)《污水綜合排放標準》（GB89781996）規(guī)定總砷限值0.5mg/L（一級標準）。

污泥管理：砷沉淀物屬危險廢物，需合規(guī)處置。

建議先進行廢水水質(zhì)檢測（砷濃度、pH、共存離子等），再定制工藝方案。可聯(lián)系環(huán)保設備供應商（如威立雅、桑德集團）提供針對性設計。